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ALFONSO CARMELO CINO
Pubblicazione
Nanotecnologie SPPLN con maschere in silica e fotoresist
Autori:
BUSACCA A; RIVA SANSEVERINO S; PARISI A; CINO AC
Anno di pubblicazione:
2004
Tipologia:
eedings
OA Link:
http://hdl.handle.net/10447/12929
