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ALESSANDRO BUSACCA

Nanotecnologie SPPLN con maschere in silica e fotoresist

  • Autori: Busacca, A.; RIVA SANSEVERINO, S.; Parisi, A.; Cino, A.
  • Anno di pubblicazione: 2004
  • Tipologia: Proceedings (TIPOLOGIA NON ATTIVA)
  • OA Link: http://hdl.handle.net/10447/12929